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蒸发式真空镀膜机
光学镀膜设备
多弧离子镀膜设备
DC,MF磁控溅射卷绕镀膜设备
蒸发+磁控镀膜设备
磁控溅射镀膜生产线
磁控溅射低辐射玻璃Low-E镀膜生产线
ITO导电玻璃镀膜设备
墙幕玻璃磁控溅射镀膜设备
其他真空镀膜机
卷绕真空镀膜设备
EMI镀膜生产线
太阳能薄膜电池镀膜生产线
PMMA 镀膜生产线

 多弧离子镀膜设备 
光学镀膜设备 DC,MF磁控溅射卷绕镀膜设备

系列多弧离子镀膜机,运用等离子体真空镀膜原理,将电弧镀技术与磁控离子镀技术融合为一体,实现多功能镀膜的目的。本系列设备金属表面零件、五金件等表面镀制一层或多层的金属膜.例如TlN膜 和仿金膜、掺金膜、枪黑膜等高挡装饰膜
应用范围
主要用于镀制多种金属,也可以镀多层膜、合金膜及化学物膜,如镀超硬耐磨损膜、防腐蚀膜、装饰膜(金、银、黑、红、蓝、绿等颜色),结合磁控溅射技术可镀制多层复合膜。
设备主要特点:
o镀膜室采用箱式前开门优质不锈钢制造。
o镀膜室规格及工件轴尺寸通用性广。
o配置性能先进、可靠的电弧源。
o可按用户的需要配置园柱型或平面型磁控溅射靶。
o配有灯丝加热及增强离化装置。
o应用可编程控制器(PLc),自动或手动任选。

GPA系列多弧离子镀膜机主要技术指标

GPA-600

GPA-700

GPA-800

GPA-1000

GPA-1250

工作室尺寸

Φ600X800

Φ700x700

Φ800X1000

Φ1000X1500

Φ1250X1600

最大工件回转直径

Φ120X450X6轴

Φ120X550X6轴

Φ170X750X6轴

Φ200X1200X6轴

Φ270X13500X6轴

工件架转速(转/分钟)

1-3

1-3

1-3

1-3

1-3

烘烤温度(ºC)

室温到350ºC可调

室温到350ºC可调

室温到350ºC可调

室温到350ºC可调

室温到350ºC可调

加热功率(KW)

4

6

12

20

24

配置电弧源(个)

D100/4个

D100/4个

D100/6个

D100/8个

D100/12个

配置磁控溅射靶

750/5KW

750/5KW

100/10KW

115/40KW

115/40KW

极限压力(Pa)

3X10-3

3X10-3

3X10-3

3X10-3

3X10-3

恢复真空抽气时间(空载从大气至5-10-3Pa)

≤10

≤10

≤15

≤15

≤15

真空机组配置

KT-400 2X-70 2X-4

KT-500 2X-70 2X-8

KT-600 2X-70 2X-15

KT-800 ZJ-600 2X-70 2X-15

KT-800 ZJ-600 2X-70 2X-15

名义总功率(KW)

64

63

94

125

145


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